「Electronic Journal第1086回Technical Seminarウェーハ切断加工技術の最新動向★徹底解説~Si/SiC/サファイアウェーハ切断加工技術を詳解~」と題したセミナーにて 「SiCウェーハ/サファイアウェーハ切断加工技術と装置」について講演します。
主催 : 株式会社電子ジャーナル
日時 : 2012年1月24日 13:00~17:00
会場 : 総評会館 (東京 御茶ノ水)
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